這套系統，在計算機的控制下可直接在光或熱阻薄膜材料上形成數十納米級任意形狀的納米構造，可獲得導體，半導體和絕緣體的相應構造，可在制造納米電極和納米電路、生物醫(yī)療納米器件、超大規(guī)模電路的納米特征尺度掩膜等領域獲得廣泛應用。納米無掩模光刻技術迎合了微納器件制造的發(fā)展趨勢，能克服目前的光刻技術由于掩模成本不斷增加所帶來的困難。
